反应釜的抛光方法

1、机械抛光:整平性好,亮劳动强度大,污染严重,复杂件难加工,光泽下降,投资及成本较高简单工件,中,小产品,复杂件不能加工。整个产品光泽做不到一致,光泽保持时间不长。

2、化学抛光:投资少,复杂件能抛,效率高,速度快光亮度不足,抛光液要加湿,有气体溢出,需要适风设备。 复杂产品,光亮度要求不高的产品可选用小批量加工较划算。

3、电化学抛光:达镜面光泽，长期保持,工艺稳定,污染少,成本低,防污染性好。一次性投资大,复杂件要装工装,辅助电极,大量生产要降温污挡产品,要求长时间保持镜面光，产品。工艺稳定 ,易操作。